近幾年來，國內(nèi)化工制藥工業(yè)不斷加快調(diào)整以及企業(yè)轉(zhuǎn)型，對于促進(jìn)社會經(jīng)濟(jì)發(fā)展以及保護(hù)人民健康等方面有著重要作用，對于控溫儀器設(shè)備的需求量也在不斷加大，給無錫冠亞制冷加熱裝置的發(fā)展也創(chuàng)造了新的機(jī)遇。

制冷加熱裝置也稱之為：制冷加熱動態(tài)控溫系統(tǒng)、高低溫一體機(jī)、制冷加熱循環(huán)裝置等，不同企業(yè)給予的名稱不同，是專門給反應(yīng)釜做升降溫用，整個循環(huán)系統(tǒng)的導(dǎo)熱介質(zhì)是全密閉循環(huán)，循環(huán)系統(tǒng)帶有液體膨脹容器，膨脹容器和液體循環(huán)是獨立系統(tǒng)，膨脹容器并不參與液體循環(huán)，只是機(jī)械的連接。就算高溫運(yùn)行的情況下，膨脹容器中的導(dǎo)熱介質(zhì)都不會高于50度。

據(jù)無錫冠亞技術(shù)人員介紹，制冷加熱裝置采用的導(dǎo)熱介質(zhì)在一個密閉的系統(tǒng)中，帶有導(dǎo)熱介質(zhì)的膨脹容器不參與循環(huán)過程，無論是高溫低溫，膨脹容器的溫度始終保持在常溫60℃，延長了導(dǎo)熱介質(zhì)的使用壽命。由于使用的是同一介質(zhì)，不需要更換介質(zhì)和在不需要加壓的情況下就可以實現(xiàn)-90℃~195℃、-70℃~220℃、-55℃~250℃、-25℃~300℃連續(xù)控溫。只用同一種介質(zhì)就可以快速響應(yīng)控制溫度，可以在-120℃~300℃范圍內(nèi)實現(xiàn)流體系統(tǒng)控溫。單一壓縮機(jī)制冷技術(shù)可以達(dá)到-150℃的溫度，并且體積更小，更容易抬放。

經(jīng)過十幾年的發(fā)展，我國的制冷加熱裝置的精度也有了很大的進(jìn)步，設(shè)備精度大概到0.1℃，能滿足國內(nèi)化工制藥等行業(yè)的需求，但是無錫冠亞并不滿足目前的技術(shù)現(xiàn)狀，設(shè)置專門的技術(shù)部門，在原有的技術(shù)基礎(chǔ)上不斷開拓創(chuàng)新，解決原先設(shè)備占地大的問題，2018無錫冠亞推出的SUNDI-575，其外觀設(shè)計更是人性化，采取全新的外觀設(shè)計，更先進(jìn)的裝配工藝，利用jing密的激光進(jìn)行切割，大小更加準(zhǔn)確，節(jié)省空間設(shè)計，體積更小，占地更小，穩(wěn)定性高，運(yùn)行更平穩(wěn)。

近年來，節(jié)能環(huán)保成為各個行業(yè)發(fā)展的主旋律之一。對于制冷加熱裝置制造企業(yè)而言，選擇gao效率、高工藝、高配置的制冷加熱設(shè)備無疑是好的選擇，另外，無錫冠亞還采用環(huán)保型制冷劑，摒棄以往氟利昂制冷劑帶來的污染問題，力爭將設(shè)備做的更好。

無錫冠亞擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗的高素質(zhì)專業(yè)設(shè)計人員的研發(fā)隊伍。特別是反應(yīng)釜控溫為單一介質(zhì)控制 -90度～+250 度連續(xù)控溫。產(chǎn)品溫度范圍涉及－152度到350度，還可以根據(jù)客戶的需求進(jìn)行非標(biāo)加工定做。

科學(xué)技術(shù)的發(fā)展也不斷加速了化工制藥行業(yè)的研發(fā)工作，從而促進(jìn)了實驗儀器設(shè)備的不斷發(fā)展，我國現(xiàn)在處于儀器設(shè)備高度發(fā)展時期，制冷加熱裝置也迎來了廣闊的前景，進(jìn)入了快速發(fā)展時期。